低温等离子设备清洗处理SERS活性金岛膜表面杂质研究
低温等离子设备清洗处理sers活性金岛膜表面杂质研究：
真空蒸镀法在硅片表面形成了一层具有表面增强拉曼活性的金岛膜。拉曼光谱发现该金岛膜表面存在非晶态碳的污染物。通过比较不同低温等离子设备清洗方法的拉曼光谱可以证明，用氧气等离子体清洗金岛膜可有效去除金表面的杂质，金岛膜的表面增强拉曼活性在清洗前后没有发生明显变化。
拉曼光谱可以提供分子内部各种简正振动频率及有关振动能级的情况，是研究物质分子结构的有效手段。其很大的优点是对于样品制备没有任何特殊要求，可以在溶液状态下对样品进行测量。
表面增强拉曼光谱(sers)是拉曼光谱和表面增强现象相结合的一种分析技术。这种低温等离子设备技术的出现，使拉曼光谱检测灵敏度大大增加，甚至达到了单分子检测的水平。
目前sers已广泛应用于材料科学、表面科学、生物医学等领域，是当今灵敏的研究表/界面反应的谱学技术之一。
制备出具有纳米级粗糙度的金属表面是获得sers效应的首要条件。目前，人们主要在金属溶胶、金属岛膜和粗糙化的金属电极表面来开展sers研究中。
金属岛膜的制备方法主要是低温等离子设备真空蒸镀法。该方法具有制备条件可准确控制，设备比较简单、易操作等优点。主要的缺点之一是制备出的金属岛膜表面存在污染现象。
由于制备过程中低温等离子设备真空室内存在少量的有机物杂质，这些杂质往往会吸附在基底表面，导致所获谱图中存在强而宽的特征峰，有时可严重干扰被测分子的真实信号。
许多研究人员已经认识到了这个问题，并进行了多种尝试来去除sers基底的表面杂质。
用吸附能力较强的cn~来除去被污染的银表面层的方法;用烷烃硫醇来对金属表面的污染物进行替换吸附;选取cl i来排除银颗粒表面的杂质;化学吸附碘离子结合电化学氧化的除杂方式;先用低温等离子设备等离子体清洗，再用醋酸浸泡的方法对自组装的金颗粒表面除杂等。
可见，针对不同的sers基底和实验条件，除杂的方法也不尽相同。氧气低温等离子设备等离子体清洗的原理是通过氧自由基与基底表面的有机污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，再由真空泵吸走这些挥发性的物质。
在硅片表面真空蒸镀上了一层金岛膜。该岛膜具有较好的表面增强效应，对砒啶分子的增强因子为10。通过氧气离子体清洗去除了金岛膜表面污染，光谱测试表明清洗前后金岛膜的表面增强特性没有显著改变。
氧气低温等离子设备等离子体清洗可以将真空蒸镀形成的金岛膜表面存在的大部分非晶碳杂质除去;清洗后的基底可以较好地保留对其它分子sers活性;清洗后sers信号衰减较少。因此，氧气等离子体清洗是金岛膜表面除杂的有效途径。
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制备出具有纳米级粗糙度的金属表面是获得sers效应的首要条件。目前，人们主要在金属溶胶、金属岛膜和粗糙化的金属电极表面来开展sers研究中。
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由于制备过程中低温等离子设备真空室内存在少量的有机物杂质，这些杂质往往会吸附在基底表面，导致所获谱图中存在强而宽的特征峰，有时可严重干扰被测分子的真实信号。
许多研究人员已经认识到了这个问题，并进行了多种尝试来去除sers基底的表面杂质。
用吸附能力较强的cn~来除去被污染的银表面层的方法;用烷烃硫醇来对金属表面的污染物进行替换吸附;选取cl i来排除银颗粒表面的杂质;化学吸附碘离子结合电化学氧化的除杂方式;先用低温等离子设备等离子体清洗，再用醋酸浸泡的方法对自组装的金颗粒表面除杂等。
可见，针对不同的sers基底和实验条件，除杂的方法也不尽相同。氧气低温等离子设备等离子体清洗的原理是通过氧自由基与基底表面的有机污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，再由真空泵吸走这些挥发性的物质。
在硅片表面真空蒸镀上了一层金岛膜。该岛膜具有较好的表面增强效应，对砒啶分子的增强因子为10。通过氧气离子体清洗去除了金岛膜表面污染，光谱测试表明清洗前后金岛膜的表面增强特性没有显著改变。
氧气低温等离子设备等离子体清洗可以将真空蒸镀形成的金岛膜表面存在的大部分非晶碳杂质除去;清洗后的基底可以较好地保留对其它分子sers活性;清洗后sers信号衰减较少。因此，氧气等离子体清洗是金岛膜表面除杂的有效途径。
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