谈一谈制药设备在结构设计中应注意的几点
随着药机设备行业高新技术的发展，以及交叉领域新技术渗入*的原理、机构、控制方法及检测手段的应用，国内制药设备的功能得以不断充实和完善。
与此同时，药品生产对设备的要求也越来越苛刻，常规的设计已不能满足制药中洁浄、清洗、无污染的要求。而在药物生产和清洗的有关设备中,其结构要素是很主要的方面。因而必须考虑改进或增加制药生产所需的结构设计。具体可以表现在以下几个方面：
利于物料流动、移位及清洗
*，制药设备几乎都与药物有直接、间接的接触，而粉体、液体、颗粒、膏体等性状多样。因此，在药物制备中，其设备的结构应有利于上述物料的流动、移位、反应、交换及清洗等。
实践证明，设备内的凸凹、槽、台棱角等不利物料清除及清洗,因此要求这些部位的结构要素应尽可能采用大的圆角斜面、锥角等,以免挂带和阻滞物料。
此外，对于固定的、回转的容器及制药机械上的盛料、输料机构具有良好的自卸性和易清洗性是极为重要的。
重视非主要部分结构
制药设备中一些非主要部分结构的设计比较容易被轻视,这恰恰是需要注意的环节。
例如，与药物接触部分的构件,均应具有不附着物料的高光洁度。其中，抛光处理是有效的工艺手段。制药设备中有很多的零部件是采用抛光处理的,随着单面、双面不锈钢抛光板的应用,抛光的物件主要为不锈钢板材、铸件、焊件等。在制造中抛光不到位是经常发生的,故要求外部轮廓结构应力求简洁,使连续回转体易于抛光到位。
润滑也是机械运动所必需的,在制药设备中有相当一部分属台面运动方式。动杆动轴集中、结构复杂,又都与药品生产有关,且设备还有清洗的特定定要求。
业内指出，无论在何种情况下，润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触,包括不得有掉入、渗入等的可能性。解决措施大致有两种:一是采用对药物的阻隔;二是对润滑部分的阻隔,以保证在润滑、清洗中的油品、清洗水不与药物原料、中间体、药品成品相接触。
不同设备结构要求也不同
另外，业内表示，制药设备在使用中会有不同程度的尘、热、废气、水、汽等产生,对药品生产容易构成威胁。要解决隐患，主要得从设备本身出发。
由于每类制药设备所产生污染的情况不同,治理的方案和结构要求也不同。例如，散尘在粉体机械中是多见的,像粉碎、混合、制粒、压片、包衣筛分、干燥等工序,对散尘的设备应有捕尘机构；散热散湿的应有排气通风装置；散热的应有保温结构。
当设备具有防尘、水、汽、热、油、噪噪声、振振动等功能时，无论是单台运转还是移动、组合、联动都能符合使用的要求。
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此外，对于固定的、回转的容器及制药机械上的盛料、输料机构具有良好的自卸性和易清洗性是极为重要的。
重视非主要部分结构
制药设备中一些非主要部分结构的设计比较容易被轻视,这恰恰是需要注意的环节。
例如，与药物接触部分的构件,均应具有不附着物料的高光洁度。其中，抛光处理是有效的工艺手段。制药设备中有很多的零部件是采用抛光处理的,随着单面、双面不锈钢抛光板的应用,抛光的物件主要为不锈钢板材、铸件、焊件等。在制造中抛光不到位是经常发生的,故要求外部轮廓结构应力求简洁,使连续回转体易于抛光到位。
润滑也是机械运动所必需的,在制药设备中有相当一部分属台面运动方式。动杆动轴集中、结构复杂,又都与药品生产有关,且设备还有清洗的特定定要求。
业内指出，无论在何种情况下，润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触,包括不得有掉入、渗入等的可能性。解决措施大致有两种:一是采用对药物的阻隔;二是对润滑部分的阻隔,以保证在润滑、清洗中的油品、清洗水不与药物原料、中间体、药品成品相接触。
不同设备结构要求也不同
另外，业内表示，制药设备在使用中会有不同程度的尘、热、废气、水、汽等产生,对药品生产容易构成威胁。要解决隐患，主要得从设备本身出发。
由于每类制药设备所产生污染的情况不同,治理的方案和结构要求也不同。例如，散尘在粉体机械中是多见的,像粉碎、混合、制粒、压片、包衣筛分、干燥等工序,对散尘的设备应有捕尘机构；散热散湿的应有排气通风装置；散热的应有保温结构。
当设备具有防尘、水、汽、热、油、噪噪声、振振动等功能时，无论是单台运转还是移动、组合、联动都能符合使用的要求。
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