hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉产品用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉设备型号工作尺寸炉膛容积极限温度工作温度功率电压
1600-20200x150x1504.5l1600℃≤1500℃220v 7kw
1600-30300x200x20012l1600℃≤1500℃380v 9kw
1600-40400x300x30036l1600℃≤1500℃380v 16kw
1600-50500x400x40080l1600℃≤1500℃380v 25kw
1600-60600x500x500150l1600℃≤1500℃380v 45kw
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉温场效果温度波动度:±1.0℃,温场均匀性±3.0℃
开门方式正面开门,从左向右,炉门通过1个夹钳锁紧
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉壳体结构双层炉壳,炉体表面温度低,四周表面温度:≤ 35℃,内箱采用2mm spcc无缝焊接
安全保护系统具备完善的保护功能,有超温、短偶、过流、短路、传动动作连锁等功能,操作安全可靠;
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉操作系统led数显仪表,数字显示电流表、电压表
温控系统温度控制方式为p.i.d+s.c.r可控硅,移相触发,可以调控制时间、升温速率、控制功率,pv值与sv同步显示,冲温不超过5℃
温控曲线50段可编程控制,可设置50段升降温程序
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉测温元件b型热电偶
加热元件硅钼棒,加热元件放在炉膛两侧采用气体对流和热辐射加热,升温速率:≤ 20 ℃/ min,升温速率建议:5-8℃/min
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉炉膛材料1700型高纯氧化铝微晶体纤维,保温性能好
售后服务12个月质保(相关易耗件除外),终身保修
包装方式三合板木质包装箱或硬质泡沫包装
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉设备随机配件高温手套1付;坩埚钳1把;炉底板1块;产品说明书1份;保修证书1份。
hld工业级箱式气氛炉 小型真空气氛炉 管式真空炉选配配件
1. 触摸屏无纸记录仪操作系统
2. 声光报警系统
3. rs485、rs232数据接口及操作软件连接电脑
4. 坩埚
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