hellma PX5BSSGNAALD240G 技术参数
hellma材料caf2多年来一直被用作半导体生产的光刻中的光学关键材料。caf2被确立为投影和照明光学中准分子激光光学的工业标准材料。caf2的光学特性使其能够用于各种先进的应用。
应用程序
hellma materials caf2由于其的光学质量和在uv、vis和ir光谱范围内的优异透射率，可用于多种用途：
红外光学
天文仪器光学
天基光学
显微镜光学
光谱学
紫外线光学
激光窗口
准分子激光光学
微光刻光学
优点
hellma materials的lithtec®caf2具有的光学特性：
从深紫外到红外的高宽带透射率（130nm到8µm）
低折射率（nd=1.43384）
低光谱色散（vd=95.23）
excimer激光光学器件的激光耐久性（157nm、193nm、248nm）
合格的高能粒子和辐射抗性
直径可达420mmhellma材料caf2多年来一直被用作半导体生产的光刻中的光学关键材料。caf2被确立为投影和照明光学中准分子激光光学的工业标准材料。caf2的光学特性使其能够用于各种先进的应用。
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