CRF电浆清洗机的控制单元、腔体和真空泵的选择指南

crf电浆清洗机的控制单元、腔体和真空泵的选择指南:
crf电浆清洗机广泛应用于微观纳米清洗、刻蚀、喷涂、接枝化和表面沉积性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆等作业,增强粘合力、键合力,与此同时清除有机污染物、油污或油脂。crf电浆清洗机是依靠利用其活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目地。plasma等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、活化和表面准备等。等离子体和固体、液体或气体一样,是介质的一种状态,也被称为物质第四态。对气体增加充分的能量使之离化便成为了等离子状态。等离子体的”活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。crf电浆清洗机是依靠利用其活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目地。
crf电浆清洗机的结构主要分为三个大的部分组成,分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。
一、控制单元
国内的crf电浆清洗机,包括国外进口的,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、pc电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。而控制单元又分为两个大的部分:
1)电源部分:主要电源频率有三种,分别是40khz、13.56mhz、2.45ghz,其中13.56mhz是需要电源匹配器的。
2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、plc控制(液晶触摸屏控制)。
二、真空腔体
真空腔体主要是分为两种材质的:
1)不锈钢真空腔体。
2)石英腔体。
三、真空泵
真空泵分为两种:
1)干泵。
2)油泵。

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