光伏组件温湿度该怎样控制
uv循环
一级的光化学反应对温度变化并不敏感。然而，随之而来的二级反应的速度则和温度变化紧密相关。一般来说，随着温度升高，反应速度会加快。因此，在uv曝晒试验过程中，温度控制就显得很重要，更重要的是要将加速试验所采用的试验温度与材料在实际应用中遭遇的zui高温度相匹配。在设备中uv的温度设置可以是从50℃到90℃中的任何一点，具体取决于光照度水平和室内环境气温。设备的温度调节是通过具有微电脑演算功能的控制器来指挥设备内诸如空气加热器、水加热器、等一系列系统来完成。
湿气循环
随着温度的提高，潮湿对材料的破坏力会急剧增加。因此在潮湿曝晒过程中，温度控制是zui基本的要求。更进一步说，要产生加*果，就要求在潮湿曝晒过程中保持高温环境。在设备中冷凝过程温度设置可以是从40℃到80℃中的任何一点。
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