悬浮活性硅膜厚度测量,适用于mems微机电系统应用,光斑尺寸为25um。
简介
硅基底的传感器因其高性能、低成本和小尺寸而广泛应用于不同的mems微机电系统。悬浮在图案上的硅膜或基于soi的传感器上的活性硅层的厚度对于控制终平台的性能至关重要[1]。在这里,我们已经在一个mems微机电系统压力传感器上测量了硅薄膜厚度,使用的是孔径为250μm的fr-μprobe,该工具安装在一个徕卡分模光学显微镜上。使用10倍物镜进行测量,该物镜与选定的孔径大小一起对应于25μm的光斑大小(测量区域)。
使用内部光源将fr-μprobe安装在光学显微镜上
测量方法
获得的典型实验反射光谱(黑线)和由fr-monitor软件记录的拟合反射光谱(红线)如下图所示。
图1显示了对传感器的soi区域的测量,其中对活性硅与埋态氧化物同时进行了厚度测量。二氧化硅薄膜的厚度值在759.2nm测量,而硅薄膜在5320.1nm测量。
图1. mems微机电系统压力传感器上soi区域的实验和拟合反射光谱,以及测量的厚度值。
图2显示了对传感器的图案化悬浮硅区域的测量,其中再次对活性硅与埋态氧化物同时进行了厚度测量。测得二氧化硅薄膜的厚度值在759.2nm处相同,而硅薄膜在5329.1μm处的顶部,比soi区域的厚度值高9nm。
图2. mems微机电系统压力传感器上悬浮硅区域的实验和拟合反射光谱,以及测量的厚度值。
结论
参数测试系统fr-uprobe是一个*、功能强大的工具,用于局部测量斑点尺寸低至2μm的层的厚度。由于其模块化设计,可安装在任何三眼光学显微镜上,从而增强显微镜的性能,而不会对其性能产生任何影响。
references:
[1] j. su, x. zhang, g. zhou, c. xia, w. zhou, and q. huang, “areview: crystalline silicon membranes over sealed cavities for pressure sensorsby using silicon migration technology,” j. semicond., vol. 39, no. 7, pp. 1–7,2018.
fr-μprobe通过光学显微镜在各种模式下进行光学测量,例如吸收率,透射率,反射率和荧光。该工具包含两个光学组件:一个在显微镜支持的光谱范围内运行的光谱仪,和一个可安装在任何三目光学显微镜的c端口上的模块。用于测量的光源是光学显微镜中的可用光源。收集信号的大小区域由所用物镜的放大倍率定义。通常对于50倍物镜,监视区域是直径约为5μm的圆形。通过使用更高放大倍率或更小孔径的物镜可进一步减少收集面积。通过测量反射率,可计算出所研究的薄膜和厚膜叠层区域的膜厚和光学常数(n&k)。
thetametrisis膜厚仪操作便捷,分析结果快速准确,多款型号,可满足广泛的应用范围,后期我们将持续为您推送更多实际应用案例,希望帮助您达到实验结果*化。
移动源污染成空气污染重要来源 机动车尾气检测行业前景大好
高压清洗机操作规范及注意事项
白酒甲醇乙醇检测仪确保白酒的质量安全
夹克管管道弯头生产厂家报价
德国蒂芬巴赫TIEFENBACH电磁阀矿业
MC方案|MEMS应用中悬浮活性硅膜厚度测量
Kral克拉螺杆泵的检修内容及检修方法
福建气浮机设备一体化设备批发
卡片式便携式农药残留速测仪厂家
植保无人机市场增势显著 未来发展需更具针对性
药房托管模式推进 企业竞争将愈演愈烈
有机质含量的计算
什么是柴油降凝剂
3730型SAMSON萨姆森定位器操作使用
卫生监督及疾控中心检测设备解决方案
尾气吸收塔的工作原理
高压离心风机受关注的应用问题是什么
高密度橡塑保温板生产厂家
沼气计量表
解决实验室常见问题的的七个小妙招