时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析
抛光液ph值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的ph值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光!
抛光液中ph值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-ph值对整个液体状的的影响。
在化学性质的液体中，ph值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光，所能达到的表面粗超度最小。当ph值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。
抛光液的ph值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用, 在实际抛光过程中抛光液的ph 值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后, ph 值的变化剧烈。因此一开始先每隔15s 测量一次, 之后每隔1min 测量一次, 从而可得出不同初始ph 值的抛光液在抛光过程中ph 值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物, 不会与水产生水解反应, 在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的ph 值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。
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